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磁控溅射原理及工艺

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  • 更新日期：2024-04-16 14:49:05
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磁控溅射利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
 
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