摘要：  先进半导体光刻及纳米图案成形系统与解决方案的市场与技术商 Molecular Imprints， Inc.(简称 MII)今天宣布，该公司预定于本季度首先交付三套先进压印模块，这些模块将被整合进 MII 设备合作伙伴的光刻机系统中。模块采用了 MII 专有的最新 Jet and Flash 压印光刻 (J-FIL) 技术，这项技术具备大批量生产规格小于20纳米的先进半导体存储设备所需的性能。

关键字：  压印模块，放大控制，

Molecular Imprints 首席执行官 Mark Melliar Smith 表示：“我们最新交付的压印模块采用了增强型的放大控制和曝光技术，以及更好的机上光刻胶过滤、实时精密机器控制和升级版的光刻胶喷射注 系统，能够大幅降低缺陷率、提高产量和覆盖准确度以及降低总拥有成本。在实现所有这些改进的同时还可以降低系统平台成本和减小产品尺寸。我要祝贺我们的开发和工程团队完成了又一项出色的产品设计和开发任务，并要感谢我们的设备合作伙伴给予的大力支持与协作。我们期待在今年晚些时候看到这些系统在我们半导体客户的生产设备中发挥作用。”