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第11届中国国际半导体博览会暨高峰论坛展商巡礼:科华微电子
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第11届中国国际半导体博览会暨高峰论坛展商巡礼:科华微电子

2013-05-20 17:26:49 来源:大比特半导体器件应用网 点击:1718

摘要:  北京科华微电子材料有限公司(KEMPUR)将携相关产品亮相IC China2013展会。

第11届中国国际半导体博览会暨高峰论坛(简称2013 ICC)将于2013年11月13-15日在上海新国际博览中心隆重开幕。届时,北京科华微电子材料有限公司(KEMPUR)将携相关产品亮相展会。

科华微电子是中国第一个拥有光刻胶自主知识产权的半导体企业。董事长陈昕介绍:公司也是国内唯一一家集光刻胶科研、生产、销售和服务于一体的中外合资企业。公司拥有雄厚的技术实力、拥有光刻胶自主知识产权及资深的研发队伍,可根据客户需求进行产品的设计与开发。

2004年8月13日,科华微电子在北京市天竺综合保税区成立。公司经营范围为:生产微电子材料、半导体原材 料检测、技术开发、销售自产产品。目前经营领域为光刻胶、配套试剂的生产与销售。

陈昕介绍:科华微电子承担国家02重大专项“248nm光刻胶研发与产业化”项目,并通过ISO9001质量体系审核和ISO1400环境体系审核。

先进的应用测试设备

先进的应用测试设备

公司目前有两个生产基地,一个位于北京天竺空港出口加工区,占地面积21000多平方米,建筑面积9300多平方米,以高档光刻胶的生产为主,产品包括高档g线正胶、i线正胶和TFT LCD用正胶及相关的配套试剂,其中的高档g线和i线正胶生产线是国内第一个拥有自主知识产权的现代化的500吨/年的光刻胶生产线。现有产品均为国家重点攻关项目,亦是2009年出台的《电子信息产业调整和振兴规划》和 《国家科技重大专项“十二五”发展规划战略》中的重点支持项目。

另一个生产基地位于房山区燕山石化工业区,2005年建成投产,是国内规模最大的负胶和配套试剂生产基地,主要以紫外负型光刻胶及配套试剂和宽谱正胶为主,其中负胶生产为百吨级规模,配套试剂为千吨级规模。

科华微还集中了国内外最优秀的光刻胶研发与生产方面的技术专家和团队,并与清华大学、北京大学及北京师范大学等建立了密切的合作关系。

陈昕介绍,公司于2008年4月28日与北京工业投资发展管理有限公司增资扩股签约仪式在顺义区天竺出口加工区内举行。此次签约完成后,北京市工业投资发展管理有限公司投资2000万元,成为科华微中方第一大股东。

科华微电子

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