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研发芯片需跨越五关六将重重阻碍 它亦是关键
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研发芯片需跨越五关六将重重阻碍 它亦是关键

2021-10-26 14:23:42 来源:知乎 作者:莱特莱德环境

【哔哥哔特导读】芯片国产化是目前备受关注的焦点话题之一,自从美国对华为发布芯片禁令以来,这让我们真正意识到国产替代的重要性,可是,研发芯片需跨越五关六将重重阻碍,它亦是关键,即生产制造芯片不可或缺的超纯水设备。

芯片危机让全世界都遭遇着芯片紧缺的难题,这让许多国家都意识到自主研发芯片的必要性,已经有条不紊地开展芯片产品研发工作中。在我国,在芯片层面遭遇的情况也是十分明显的,美国对华为公布的禁令让华为公司在半导体行业遭受了严重的阻拦。

芯片

据了解,全世界要建19座芯片加工厂,在其中16座芯片加工厂要建在中国。如今距离芯片禁令过去一年了,中国的半导体芯片产业因为禁令发生了天翻地覆的转变,如今在我国早已逐渐完成自主研发芯片及创作的机遇,更何况,自主化已经成了一种时尚流行。

如今,中国芯片行业未来发展的情况便是在与外国差距方面,我国进到半导体芯片行业的時间还是比较短的,而海外许多国家早在十多年前就早已在芯片方面展开了探讨,因此我们在芯片研发和制造工艺技术等方面,時间及构思都略微差了别的国家一段时间,可是大家沒有为灰心丧气,现在已经在追逐之间的差别。

大家都知道,芯片在生产过程选用的的超纯水品质优劣可以直接危害芯片的制造品质。要想追逐与海外的差别,这也是很重要的一个技术阶段,假如能提升超纯水的品质,坚信在我国芯片生产制造可能迈上一个新的阶梯。芯片生产制造常用超纯水应合乎美国ASTM D5127电子器件及半导体业用纯净水水体TypeE-1.2,高于中国国家电子器件级超纯水规范GBT11446.1-1997EW-Ⅰ规范。

传统式的超纯水制取加工工艺既消耗财力又消耗人力,早已不适合用目前的超纯水生产制造。莱特莱德通过数年实践活动,选用反渗透水净化设备与电去离子(EDI)机器设备及打磨抛光混床紧密结合的方法来取得超纯水,可将水里的介电质差不多彻底除去,又将水里不离解的胶体溶液化学物质,气体及物质均除去至很低水平。莱特莱德技术专业的超纯水机器设备致力于电子器件超纯水行业,终将发光发热。

在我国,半导体芯片行业的发展趋势是不言而喻的,我们所取得的进步也已经被世界所认同,期待在我国再也不依赖进口芯片而被别的国家制约。将来中国半导体芯片行业的进步速度将令人无法想象。

 

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